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通過化學(xué)氣相沉積(CVD)和機(jī)械剝離法分別制備了二硫化鉬(MoS?)片。然后對MoS?片進(jìn)行了TRS(瞬態(tài)反射測試)與二次諧波(SHG)測量
大連理工大學(xué)潘路軍教授課題組,在近期工作提中,通過鎳催化化學(xué)氣相沉積工藝在CTP上成功合成了螺旋碳微線圈(CMC)。CTP和CMC形成了一種集成的吸收復(fù)合材料,其中螺旋CMC同時增強(qiáng)了導(dǎo)電損耗和交叉極化損耗,CTP和CMC之間的連接引起了界面極化損耗。通過精確控制催化劑的量,可以調(diào)節(jié)CTP/CMC的阻抗。優(yōu)化后的CTP/CMC-10復(fù)合材料具有優(yōu)異的微波吸收性能,有效帶寬(反射損耗<-10 dB)為7.4 GHz,填充率為10%。這項(xiàng)工作為開發(fā)低成本、寬帶和高效的MAM鋪平了新的道路。該成果以“Integration of helical carbon microcoils on toilet paper substrates for low-cost and broadband microwave absorption”為題發(fā)表在《Carbon》期刊,第一作者是孫琛。
超快光譜Z掃描技術(shù)是一種結(jié)合超快激光脈沖和非線性光學(xué)效應(yīng)的實(shí)驗(yàn)方法,常用于表征材料的光學(xué)非線性特性及其動態(tài)過程。 本文小編將采用2篇文獻(xiàn)來介紹Z掃描技術(shù)的具體原理和應(yīng)用
在光通信和光子器件領(lǐng)域,如何實(shí)現(xiàn)高效的非線性光學(xué)響應(yīng)和快速光開關(guān)一直是科研與工業(yè)界關(guān)注的焦點(diǎn)。近期,華中科技大學(xué)韓俊波課題組采用Z掃描和光克爾技術(shù),系統(tǒng)表征了玻璃基底隨機(jī)分布金納米棒陣列(R-GNRA)的三階非線性光學(xué)特性與熱電子弛豫時間(τ),其展現(xiàn)出的巨大三階非線性光學(xué)效應(yīng)和超長熱電子弛豫時間,這種非線性增強(qiáng)與弛豫延緩效應(yīng)源于納米棒二聚體間隙誘導(dǎo)的局域場增強(qiáng),該突破性發(fā)現(xiàn)為等離子體納米結(jié)構(gòu)在光子器件和光催化領(lǐng)域的應(yīng)用開辟了新途徑
在上一期《名家專欄》中,我們初探超寬帶極紫外光源在半導(dǎo)體量檢測中的應(yīng)用,從先進(jìn)高端芯片制造需求入手,對相干X射線衍射成像技術(shù)的原理及在半導(dǎo)體領(lǐng)域應(yīng)用做了重點(diǎn)分享,本期將介紹基于超寬帶極紫外工藝的散射測量技術(shù)的應(yīng)用情況。
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